Event＆Seminar Lists
NEDOプロジェクトを核とした人材育成、産学連携等の総合的展開／
有機ケイ素先端材料開発技術者養成に係る特別講座
構造制御されたポリシロキサンの製造技術、
分析評価技術講座
概要
幅広い分野で使用されている有機ケイ素部材の性能向上に向けて、ポリシロキサンの構造制御は重要です。そのような高機能な有機ケイ素材料事業のさらなる拡大を促進し、新技術・製品開発を担う人材を育成することを目指し、本講座を開設することとなりました。早稲田大学では、構造制御された鎖状ポリシロキサンの合成と分析に関する講義および演示実験を行います。有機ケイ素化合物事業に関わっている企業の方々や、ポリシロキサンの構造制御技術や分析方法について学びたい大学院生の方々などにご参加いただけることを期待しています。
スケジュール
日時
第1回 2023 年 2月 7, 8 日 (終了いたしました)
第2回 2023 年 3月 14, 15 日 (終了いたしました)
場所
早稲田大学 西早稲田キャンパス 65号館 (東京都新宿区大久保3丁目4―1)
内容 ※第二回では合成するポリシロキサンを変更する可能性があります
1 日目
講義
ポリシロキサン合成の基礎
モノマー配列の制御されたオリゴおよびポリシロキサンの製造 ・ 分析方法
実習(見学)
ABA型鎖状トリシロキサン(A:-SiMe2O- B: -SiPh2O-)の合成と分析
2日目
実習(見学)
ルイス酸触媒を用いた重縮合による構造制御されたポリシロキサンの合成と分析
講師紹介
下嶋敦
早稲田大学 理工学術院教授。 東京大学助手、同助教、同准教、早稲田大学准教授を経て2017 年より現職。自己組織化によるシリカ系ハイブリッドの構造制御に関する研究にて日本セラミックス協会 進歩賞を受賞。日本セラミックス協会関東支部 常任幹事、無機高分子研究会 運営委員長、日本ゾル-ゲル学会 理事などを兼任。博士（工学）
受講料
無料（資料、機器使用など）
※受講に伴う旅費、宿泊費等は受講者様負担です。
◇保険等は、受講者様ご自身でのご負担・ご加入をお願いいたします。
対象者
両日程とも5 名程度
お申込み多数の場合はご所属や受講目的などを考慮のうえ受講者を決定させていただきます。ご希望に添えない場合がございますので、予めご了承ください。
受講の可否
受講者に決定した方には、申し込み締め切り日後1週間以内にE-mailにてご連絡差し上げます。
注意事項
本講座は原則両日参加です。
受講者の途中交代は原則認めておりません。 実習は、原則現地参加となりますが、新型コロナウィルスの状況により、講座がリモートで開催される場合もございます。その際は申込時にご記入いただいたメールアドレスにて連絡いたします。
申し込み方法
下記のリンクより必要事項をご記入の上お申し込みください。
https://forms.gle/hmdadvKW3VEksiacA
申し込み締切
第1回 2023 年1 月20 日(金) (終了いたしました)
第2回 2023 年2 月24 日(金) (終了いたしました)
お申込み多数の場合は、締切前に募集を終了することがありますので、お早めにお申し込みください。
お問い合わせ先
ご不明な点がございましたら、下記メールアドレスまでお問い合わせください。
早稲田大学 下嶋研究室
「NEDOプロジェクト 人材育成講座」担当
E-mail: polysil.waseda.oxane@gmail.com
追記事項
1/10 締め切り日時を延長いたしました。
1/20 第1回の申し込みを締め切りました。
2/10 締め切り日時を延長いたしました。
2/24 第2回の申し込みを締め切りました。
規則構造を有するポリシロキサン材料の合成法、
分析法等に関するワークショップ
概要
分子レベルやナノレベルの規則性を有する1次元〜３次元構造のポリシロキサン材料の合成・分析法等に関して、大学等から講師を招聘して基礎から最先端の技術、成果を紹介します。また、早稲田大学の分析センターの見学会を設定し、関連する分析技術についての情報提供を行います。
スケジュール
日時：2023年3月17日(金) 13:30-17:00 (終了いたしました)
場所：早稲田大学西早稲田キャンパス 56号館 102号室
講演内容：
13:30-14:30（質疑込み）
郡司 天博（東京理科大学）
「アルコキシシランからのポリシロキサンの合成」
ゾル-ゲル法として知られるアルコキシシランの加水分解重縮合を，最近の研究成果に基づいて紹介します。
14:30-15:30（質疑込み）
金子 芳郎 (鹿児島大学）
「構造制御されたシルセスキオキサンおよびシロキサンの合成、機能発現およびハイブリッド化」
ラダー状、かご状、環状などの構造制御されたシルセスキオキサンおよびシロキサンの合成、機能発現、ハイブリッド化に関する講演者のこれまでの研究を紹介します。
15:30-15:45 休憩
15:45-16:15（質疑込み）
下嶋 敦（早稲田大学）
「モノマー配列の制御されたポリシロキサンの合成技術」
メチル基やフェニル基など異なる有機置換基が周期的に配列したオルガノポリシロキサンの新規合成技術について紹介します。
16:20-17:00 早稲田大学物性計測センター見学会
受講料
無料（資料、機器使用など）
※受講に伴う旅費、宿泊費等は受講者様負担です。
受講の可否
受講者に決定した方には、申し込み締め切り日後1週間以内にE-mailにてご連絡差し上げます。
申し込み方法
下記のリンクより必要事項をご記入の上お申し込みください。
https://forms.gle/c4wEJkGq6mpUKyb99
申し込み締切
2023年3月10日(金) 17:00 締切
お申込み多数の場合は、締切前に募集を終了することがありますので、お早めにお申し込みください。
お問い合わせ先
ご不明な点がございましたら、下記メールアドレスまでお問い合わせください。
早稲田大学 下嶋研究室 「NEDOプロジェクト 人材育成講座」担当
E-mail: polysil.waseda.oxane@gmail.com
追記事項
今後、更新予定。
