Equipments

We use many equipments applicable to various research fields. We can also use equipments in Kagami Memorial Research Institute for Materials Science and Technology (in-plane XRD, 2D XRD, SAXS etc.), Materials Characterization Central Laboratory (Liquid- and Solid-state NMR, ESI-MS, FAB-MS, MALDI-TOF-MS, AFM, CHN, Single crystal XRD, etc.) and Enviromental Safety Center (GC-MS, ICP-OES, ICP-MS, etc.).

Microscopes

HR-SEM

HITACHI S-5500

S-5500 is a general scanning electron microscope with an in-lens type objective lens. It has high resolution and can observe mesopores as small as several nanometers. Elemental characterization and mapping are also available with the attached EDX system.


Optical Microscope

OLYMPUS BX51

BX51 is available for bright-field, dark-field, polarized light, and differential interference observation. It is mainly used for structural analysis of lyotropic liquid crystals used as templates and observation of cracks in thin films.


Equipments

Vacuum Line

It is an indispensable instrument for using compounds unstable in air. A high vacuum line equipped with an oil diffusion pump is also installed. It is also connected to nitrogen and argon gas, allowing vacuum nitrogen (argon) displacement. 10 vacuum lines are in operation.


Rotary Evaporator

EYELA N-1100

It is used for sample concentration and removal of organic solvents. 3 rotary evaporators are in operation.


GPC

JAI LC-9104, LC-9110 NEXT, LC-NET II

高分子などの分子量分布・分子量を求めるだけでなく、みかけの分子サイズの違いによって目的物を分離・精製することができます。オート操作も可能。CHCl3 or THF is used as the expansion solvent.


Super Centrifuge

HITACHI himac CR16RN

数万Gの遠心力により、一般の遠心分離機では不可能な小さい物質の分離ができます。また冷却機能により、系内を低温にした状態で分離を行うことも可能です。


Spin Coater

OSHIGANE SC-300

基板真空ポンプで固定して回転させることで、薄膜を作製できます。回転は2段階に分けることができ、各段階において回転数(0~6000 rpm)および回転時間を設定可能です


Electric Furnace

YAMATO F0310, F0310, F0100

金属の溶解や粉体の焼結、化学分析、その他燃焼試験に使用できます。昇温速度などのプログラムを入力することにより、所望の温度に設定可能です。


Constant Temperature and Humidity Room

ORION PAP10A-K

温度と湿度を制御可能な小部屋です。再現性の良い実験をするために役立ちます(制御可能範囲:18~30 °C, 45~75% RH)。


Constant Temperature and Humidity Oven

ESPEC SH-221, SH-222

温度と湿度を制御可能なベンチトップサイズの装置です(制御可能範囲:−20~150 °C, 30~95% RH)。


Freeze-dry System

EYELA FD-5N

加熱乾燥等では分解、形態の変化を生じてしまう試料について、 水の昇華を利用して非破壊的に乾燥させることが出来ます。


XRD (Cu)

Rigaku RINT-Ultima III

試料にX線を照射し,回折角を測定することによって結晶相の同定を行います。


XRD (Fe)

Rigaku Ultima IV

より低角度側のプロファイルの解析に適した装置です。通常のX線回折に用いられるCuKαよりも波長の長いFeKαを用いることで、低角度側のピーク位置がCuKαの場合よりも高角度側に検出されます。


Spectrometers

FT-IR

JASCO FT/IR-6100

赤外領域波長の光の吸収を測定する装置です。化合物中の官能基の同定に用います。近赤外域の観測も可能です。オートサンプルチェンジャー機能付き。


UV-Vis

JASCO V-660

200~900 nmの紫外領域および可視領域波長の光の吸収を測定する装置です。積分球に付け替えることで拡散反射法による測定も可能です。


Fluorometer

HITACHI F-4500

紫外可視領域波長の光を照射した時の化合物の発光現象を測定する装置です。恒温セルホルダーあり。


DLS

HORIBA nano Partica SZ-100S

溶液中の粒子による光散乱を測定する装置です。主に動的光散乱法による、微粒子の粒子径(1~6 μm)測定に用いられます。また、静的光散乱法を用いた分子量測定も可能です。


Zeta Potential Measurement

OTSUKA ELECTRONICS ELSZ-2

粒子の影響を受ける周囲の荷電を測定することによって、 粒子の表面電荷を間接的に見積もることができます。また、分散状態にある粒子の分散安定性を示す指標にもなります。


Thermophysical Properties

TPD

BEL JAPAN BELCAT-A-SP

昇温により物質に吸着した物質を脱離させ、出てきたガスを分析する事で薄膜の吸着物質や物質表面や内部状態の解析をする触媒分析装置です。


TG-DTA

Rigaku Thermo Plus EV02

温度変化中重量減少、発熱吸熱変化の情報を合わせることで、試料中の吸着物質や有機物質の燃焼に関する温度や量についての知見を得るための装置です。


Simulations

Workstation for Spartan

Dassault Systèmes SE BIOVIA Materials Studio
Gaussian, Inc. Gaussian 16
Wavefunction, Inc. Spartan ’08

低分子化合物の構造最適化や各種分光学シミュレーションを行うためのワークステーションです。