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NEDOプロジェクトを核とした人材育成、産学連携等の総合的展開/
有機ケイ素先端材料開発技術者養成に係る特別講座

構造制御されたポリシロキサンの製造技術、
分析評価技術講座

概要                                                          

 幅広い分野で使用されている有機ケイ素部材の性能向上に向けて、ポリシロキサンの構造制御は重要です。そのような高機能な有機ケイ素材料事業のさらなる拡大を促進し、新技術・製品開発を担う人材を育成することを目指し、本講座を開設することとなりました。早稲田大学では、構造制御された鎖状ポリシロキサンの合成と分析に関する講義および演示実験を行います。有機ケイ素化合物事業に関わっている企業の方々や、ポリシロキサンの構造制御技術や分析方法について学びたい大学院生の方々などにご参加いただけることを期待しています。


スケジュール                     

日時
第一回:2026年9月18日(金)10:00〜17:00
第二回:ご希望に応じて開催(内容含めて調整可能ですので、お気軽にご相談ください)
当日の詳細なスケジュールはお申し込みいただいた後、ご案内いたします。

場所
早稲田大学 西早稲田キャンパス 65号館および55号館物性計測センターラボ (東京都新宿区大久保3-4-1)
早稲田大学 各務記念材料技術研究所(東京都新宿区西早稲田2-8-26)
内容 
【講義】
・モノマー配列やナノ構造が制御されたポリシロキサンの製造方法と物性・機能
・構造制御ポリシロキサンの分析方法
【実習(演示実験)】
・Q、D、T単位からなる構造制御オリゴシロキサンの合成
・合成したオリゴシロキサンのNMR分析
・合成したオリゴシロキサンの重縮合による3次元規則構造ポリシロキサンの合成とマクロ形態制御
・3次元規則構造ポリシロキサンの構造評価


講師紹介                       

下嶋 敦

早稲田大学 理工学術院 教授。 東京大学助手、同助教、同准教、早稲田大学准教授を経て2017 年より現職。日本セラミックス協会 常任理事、日本ゾル-ゲル学会副会長、International Sol-Gel Society 理事、ケイ素化学協会 理事などを兼任。博士(工学)


対象者                         

企業の研究・開発者、大学院生
両日程とも5名程度
お申込み多数の場合はご所属や受講目的などを考慮のうえ受講者を決定させていただきます。ご希望に添えない場合がございますので、予めご了承ください。


受講料                        

無料(資料、機器使用など)
※受講に伴う旅費、宿泊費等は受講者様負担です。
保険等は、受講者様ご自身でのご負担・ご加入をお願いいたします。
白衣と安全メガネはこちらでご準備いたします。


申し込み                     

下記のリンクより必要事項をご記入の上お申し込みください。
https://forms.gle/LQfB8oxsybmsTx6H7


お問い合わせ先                    

ご不明な点がございましたら、下記メールアドレスまでお問い合わせください。

早稲田大学 下嶋研究室
「NEDOプロジェクト 人材育成講座」担当
E-mail: polysil.waseda.oxane@gmail.com


追記事項                       




規則構造を有するポリシロキサン材料の合成法、
分析法等に関するワークショップ

概要                         

 分子レベルやナノレベルの規則性を有する1次元〜3次元構造のポリシロキサン材料の合成・分析法等に関して、大学等から講師を招聘して基礎から最先端の技術、成果を紹介します。


スケジュール                     

日時
2026年7月8日(水) 13:30-17:10

場所
早稲田大学 西早稲田キャンパス 55N号館 1F 第二会議室(オンラインにて同時開催)

プログラム
13:00-13:30   現地受付・オンライン事前接続

13:30-13:35   開会挨拶
                五十嵐 正安(産業技術総合研究所 上級主任研究員)

13:35-13:45   趣旨説明
                植松 義尊(NEDO バイオ・材料部 化学素材チーム主査)

13:45-14:05 「有機ケイ素材料の性質とその用途」
                海野 雅史(群馬大学 特任教授)

14:05-14:35 「構造制御に基づく可溶性シロキサンポリマーの創製」
                金子 芳郎(鹿児島大学 教授)

14:35-15:05 「シロキサン系ビルディングブロックの配列制御技術」
                下嶋 敦(早稲田大学 教授)

15:05-15:35 「Q単位シラノールおよびシロキサン化合物合成」
                五十嵐 正安(産業技術総合研究所 上級主任研究員)

15:35-15:45 休憩(名刺交換)

15:45-16:15 「固体DNP-NMRによる酸化物表面の化学構造解析」

                永島裕樹(産業技術総合研究所 主任研究員)

16:15-16:45 「構造が制御されたシロキサン化合物の合成法」
                海野 雅史(群馬大学特任教授)

16:45-17:15 「シリコーン硬化用鉄触媒の開発経緯と技術利用のポイント」
                神谷 昌宏(北里大学 講師)

17:15-17:20  ご講評
                岡田 光博(経済産業省 素材産業課 革新素材室 研究開発専門職博士(理学))

17:20-17:25   閉会挨拶
                一ノ宮 崇(NEDO バイオ・材料部 化学素材チーム チーム長)

17:25-17:30   フロー合成NEDO特別講座のご紹介
                法月 邦彦(NEDO バイオ・材料部化学素材チーム 主査)
                小野澤 俊也(産業技術総合研究所 主任研究員)

17:25-17:40   移動

17:40-19:30   懇親会・名刺交換会 (※懇親会: 西早稲田キャンパス内)


受講料                        

無料(資料、機器使用など)
※受講に伴う旅費、宿泊費等は受講者様負担です。


申し込み方法                     

下記のリンクより必要事項をご記入の上お申し込みください。

https://forms.cloud.microsoft/r/W5M7AYxwe5

2026年7月1日(水) 締切


お問い合わせ先                    

ご不明な点がございましたら、下記メールアドレスまでお問い合わせください。

産業技術総合研究所 触媒化学融合研究センター 五十嵐正安
E-mail: M-silicone-kouza-ml@aist.go.jp


追記事項